Synopsys S-Metro provides a comprehensive and powerful toolbox for automated assessment of numerical and image-based metrology data for photomask qualification, modeling data preparation, and process characterization.Process engineers use it to measure the lithographic performance, for instance through process window analysis.
Metrology images from any source, whether photomask or wafer, can be processed and analyzed in Synopsys S-Metro as well. Images are aligned to the corresponding layout and can be averaged to improve contrast; contours are extracted for use in model calibration and validation as well as for training machine learning modes.
Synopsys S-Metro automatically processes SEM image and CD data in a consistent and transparent manner.The infrastructure is capable of handling tens of thousands of data points and scales well on compute clusters.
Synopsys S-Metro 提供了一个全面而强大的工具箱,用于自动评估数值和基于图像的计量数据,用于光掩模鉴定、建模数据准备和过程表征。工艺工程师用它来测量光刻性能,例如通过工艺窗口分析。
来自任何来源的计量图像,无论是光掩模还是晶圆,都可以在 Synopsys S-Metro 中进行处理和分析。图像与相应的布局对齐,可以平均以提高对比度;提取轮廓以用于模型校准和验证以及训练机器学习模式。
Synopsys S-Metro 以一致和透明的方式自动处理 SEM 图像和 CD 数据。该基础架构能够处理数以万计的数据点,并在计算集群上很好地扩展。
快速导入和评估基于仪表的测量结果,以表征光刻性能
从 Hitachi (*.msr) 和 AMAT (*.cst) CD-SEM 自动导入数据对数据进行排序、分组和筛选,以便快速导航利用相关的 SEM 图像进行数据验证和消除传单确定单个和重叠的工艺窗口,包括矩形或椭圆形拟合通过统计分析评估数据一致性
快速导入和分析 SEM 图像以鉴定光掩模或生成用于构建光刻模型的数据
从任何来源自动导入 SEM 图像快速准确地将图像与布局对齐(GDS、OASIS)强大且可定制的轮廓提取广泛的轮廓分析功能场内平均CD、2D 面积、音高、EPE 评估轮廓与CD匹配S-Litho 兼容型基于量规的线/空间图案和接触孔分析将提取的轮廓导出为 GDS 或 OASIS 格式,用于后续光刻工艺模拟自动化和并行化通过 python、tcl 编写脚本;马可录音在集群上实现高效的 DP 扩展,用于大容量数据处理
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