Synopsys S-Metro provides a comprehensive and powerful toolbox for automated assessment of numerical and image-based metrology data for photomask qualification, modeling data preparation, and process characterization.Process engineers use it to measure the lithographic performance, for instance through process window analysis.​
Metrology images from any source, whether photomask or wafer, can be processed and analyzed in Synopsys S-Metro as well. Images are aligned to the corresponding layout and can be averaged to improve contrast; contours are extracted for use in model calibration and validation as well as for training machine learning modes.​
Synopsys S-Metro automatically processes SEM image and CD data in a consistent and transparent manner.The infrastructure is capable of handling tens of thousands of data points and scales well on compute clusters.
Synopsys S-Metro 提供了一个全面而强大的工具箱，用于自动评估数值和基于图像的计量数据，用于光掩模鉴定、建模数据准备和过程表征。工艺工程师用它来测量光刻性能，例如通过工艺窗口分析。
来自任何来源的计量图像，无论是光掩模还是晶圆，都可以在 Synopsys S-Metro 中进行处理和分析。图像与相应的布局对齐，可以平均以提高对比度;提取轮廓以用于模型校准和验证以及训练机器学习模式。
Synopsys S-Metro 以一致和透明的方式自动处理 SEM 图像和 CD 数据。该基础架构能够处理数以万计的数据点，并在计算集群上很好地扩展。

快速导入和评估基于仪表的测量结果，以表征光刻性能

从 Hitachi （*.msr） 和 AMAT （*.cst） CD-SEM 自动导入数据对数据进行排序、分组和筛选，以便快速导航利用相关的 SEM 图像进行数据验证和消除传单确定单个和重叠的工艺窗口，包括矩形或椭圆形拟合通过统计分析评估数据一致性

快速导入和分析 SEM 图像以鉴定光掩模或生成用于构建光刻模型的数据

从任何来源自动导入 SEM 图像快速准确地将图像与布局对齐（GDS、OASIS）强大且可定制的轮廓提取广泛的轮廓分析功能场内平均CD、2D 面积、音高、EPE 评估轮廓与CD匹配S-Litho 兼容型基于量规的线/空间图案和接触孔分析将提取的轮廓导出为 GDS 或 OASIS 格式，用于后续光刻工艺模拟自动化和并行化通过 python、tcl 编写脚本;马可录音在集群上实现高效的 DP 扩展，用于大容量数据处理

联系1400155802@qq.com