据DigiTimes报道,三星电子计划明年生产第9代V-NAND闪存,将沿用双层堆栈架构,超过300层。
+a/o)C{ RY{tX` 报道称,这将使三星的进度超过SK海力士——后者计划2025年上半年量产三层堆栈架构的321层NAND闪存。早在2020年,三星就已首次引入双层堆栈架构,生产第7代V-NAND闪存芯片。
x/=j$oA K_QCYS. ▲图源三星
$T6Qg(p C~qhwwh 双层堆栈架构指在300mm晶圆上生产一个3D NAND堆栈,然后在第一个堆栈的基础上建立另一个堆栈。
LzRiiP^q 9$&e~^&B 而三星即将生产的超300层第9代V-NAND将提高单个晶圆上生产的存储密度,这将有利于降低固态硬盘的成本。
&r%*_pX ?N*0S'dY 作为竞争对手,SK海力士的三层堆栈架构则是创建三组不同的3D NAND层,而这种做法将增加生产步骤和原材料的用量,目的是最大限度提高产量。
yf) `jPM1< (fa?ftK 另据《首尔经济日报》报道,业界认为三星在推出第9代3D NAND之后,将有望在第10代430层的3D NAND中采取三层堆栈架构。该报援引业内人士称,若3D NAND层数超过400,原材料用量和晶圆成本也会水涨船高,同时也会保证产量。
^d80\PXz t\i1VXtO 在去年10月举行的“2022三星科技日”上,三星曾提出长期愿景:2030年将层数提升至1000层。
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